Новый метод получения нанокристаллического кремния
Достижения в области нанотехнологий - нанотехнологические процессы и наноматериалы

В Институте прикладной физики РАН (Нижний Новгород)  разработан новый метод ля получения тонких пленок нанокристаллического кремния. Метод заключается в осаждении пленки кремния из плазмы на подложку из сапфира.

Во время исследования удалось определить технологические режимы осаждения. При данном режиме получается пленка размером 10нм. Новый метод позволяет менять изотопный состав напыляемого кремния, увеличивая долю тяжелых изотопов. Такой материал обладает лучшими электрическими свойствами.

Хотя опыты пока и проходят на лабораторной установке, можно уже говорить и о создании технологии высокоскоростного осаждения слоев кремния с заданными параметрами для микроэлектроники и солнечных батарей. Но в промышленной установке нужно будет использовать более мощный разряд для формирования плазмы.

Подробнее тут

Источник: nanorf.ru